IKA LR 1000.70 Support de couvercle, pour le système LR 1000, 0025003123

L’IKA LR 1000 control System (MPN 0025001991) est un réacteur de laboratoire compact offrant un volume utile allant jusqu’à 1 000 millilitres, qui combine l’agitation, le chauffage et la documentation numérique du processus en un seul appareil. Contrairement à la version plus simple LR 1000 basic System, ce modèle dispose ici d’un grand écran TFT pour l’affichage de toutes les valeurs de processus, complété par un raccordement pour la mesure externe du pH et des interfaces numériques permettant la connexion à un PC. Ce système est adapté aux processus d’agitation et de chauffage avec des milieux présentant une viscosité allant jusqu’à 100 000 mPas et des températures de travail pouvant atteindre 120 °C, notamment dans la synthèse chimique, le développement de formulations ou le contrôle qualité. Grâce à ces capteurs supplémentaires, les réactions peuvent être suivies et documentées de manière nettement plus étroite qu’avec un simple agitateur magnétique. Agitateur à ancre avec racleurs en PEEK et mesure de l’évolution du couple L’agitateur à ancre LR 1000.10 fourni est équipé de racleurs en PEEK qui glissent en continu le long de la paroi intérieure de la cuve du réacteur, empêchant ainsi le produit de se déposer sur la paroi en verre chauffée. La plage de vitesse s’étend de 10 à 150 tours par minute avec un couple nominal de 3 Nm, ce qui convient aux fluides présentant une viscosité allant jusqu’à 100 000 mPas. Une mesure intégrée de l’évolution du couple indique comment la consistance du produit agité varie au cours du processus, par exemple lorsqu’une solution s’épaissit progressivement ou qu’une matière solide se dissout. Cuve de réacteur chauffée avec régulation précise de la température La cuve du réacteur LR 1000.3 a une capacité maximale de 1 000 millilitres ; avec l’outil de dispersion, le volume minimal est de 500 millilitres. Le dispositif de chauffage situé au fond de la cuve atteint une puissance de 1 000 watts et chauffe le milieu à des températures de fonctionnement pouvant atteindre 120 °C, tandis que la plaque chauffante elle-même peut atteindre 180 °C. La sonde de température PT 100.30 fournie mesure la température du milieu avec une résolution de 0,1 kelvin ; la précision de régulation est de ±0,2 kelvin et la précision de réglage de la température de consigne de ±1 kelvin. Écran TFT, raccord pH et interfaces numériques Un grand écran TFT effectue l’affichage en temps réel de la vitesse de rotation, de la température et d’autres paramètres du processus. Une prise BNC permet de raccorder une électrode de pH externe et couvre une plage de mesure de 0 à 14 pH avec une résolution de 0,1 pH, ce qui permet de suivre les réactions acido-basiques directement dans le récipient de réaction. De plus, le système dispose d’une fonction de pesée intégrée avec une plage de pesée allant jusqu’à 2 000 grammes et une résolution de 1 gramme. Une interface RS 232, un port USB (Micro-B) et le Bluetooth sont disponibles pour la connexion à un PC en vue de la documentation du processus. Fonctionnement sous vide et concept de sécurité Le système est conçu pour fonctionner sous vide jusqu’à 25 mbar ; un ensemble de vannes à vide régule le raccordement à une pompe à vide. Deux raccords de tuyau permettent en outre de raccorder un fluide de refroidissement externe dont la température minimale est de 3 °C, par exemple pour refroidir de manière contrôlée des réactions exothermiques. Un circuit de sécurité réglable surveille la température dans une plage comprise entre 47 et 225 °C, avec une tolérance d’écart de ±10 à ±20 kelvins, et coupe automatiquement le chauffage si nécessaire. Si la cuve du réacteur ou le couvercle est retiré pendant le fonctionnement, un arrêt de sécurité se déclenche immédiatement. Différence par rapport au LR 1000 basic System Au sein de la gamme LR 1000, le control System est la version offrant un enregistrement plus complet des valeurs mesurées : alors que le modèle plus simple LR 1000 basic System est principalement conçu pour l’agitation et le chauffage, le control System intègre en plus la mesure du pH, la fonction de pesée intégrée et les interfaces numériques pour la documentation des processus. Si vous avez besoin d’une documentation complète des courbes de température, de pH et de couple, par exemple pour des justificatifs qualité internes, cette version vous conviendra mieux que le modèle de base. Domaines d’application typiques Le LR 1000 control System est adapté aux tâches d’agitation, de chauffage et de documentation à l’échelle d’un litre, partout où les données de processus doivent être consignées de manière traçable : Synthèses chimiques avec régulation de la température et surveillance concomitante du pH Développement de formulations dans les secteurs cosmétique et pharmaceutique avec des paramètres de processus soumis à une obligation de documentation Concentration ou dégazage de solutions et de dispersions assistés par le vide Essais de polymérisation visant à suivre simultanément l’évolution du couple et l’augmentation de la viscosité Contrôle qualité avec courbes de température et de pH documentées pour les processus de validation internes Travaux pratiques et formations continues au cours desquels l’utilisation d’un réacteur de laboratoire entièrement équipé est enseignée Criblage de formulations, consistant à comparer successivement plusieurs séries de préparations avec différents régimes de température Détails techniques Volume utile max.1 000 ml Volume minimal avec l’outil de dispersion500 ml Plage de vitesse10 à 150 tr/min Couple nominal3 Nm Viscosité maximale100 000 mPas Température de fonctionnement (milieu) max.120 °C Température de chauffage (plaque chauffante) max.180 °C Puissance de chauffage1 000 W Précision de régulation (milieu)±0,2 K Précision de réglage de la température de consigne±1 K Vide atteignable25 mbar Plage de peséejusqu’à 2 000 g, résolution de 1 g Plage de mesure du pH0 à 14 pH, résolution de 0,1 pH Matériau (pièces en contact avec le fluide)Verre borosilicaté 3.3, acier inoxydable AISI 316L, PEEK, PTFE, FFPM Raccords du couvercle du réacteur2 x NS 29, 2 x NS 14, 2 x GL 14 AffichageÉcran TFT InterfacesRS 232, USB (Micro-B), Bluetooth Dimensions (L x H x P)443 x 360 x 295 mm Poidsenv. 23 kg Tension d’alimentation230 V, 50/60 Hz Puissance absorbée1 200 W Température ambiante admissible5 à 40 °C Humidité relative admissible80 % max. Contenu de la livraison 1 x station de base IKA LR 1000 control 1 x cuve de réacteur LR 1000.3 1 x agitateur à ancre LR 1000.10 avec racleurs en PEEK 1 x sonde de température PT 100.30 avec support 1 x tige de statif, diamètre 16 mm 2 x raccords de tuyau pour le fluide de refroidissement 1 x câble USB (USB-A vers Micro-B, 2 m) Besoins spécifiques et service d’approvisionnement Pour l’extension du LR 1000 control System, notre service d’approvisionnement vous aide à trouver des accessoires supplémentaires, tels qu’une électrode de pH avec connecteur BNC, d’autres cuves de réacteur ou des outils de dispersion adaptés aux ouvertures libres du couvercle. Nous nous ferons également un plaisir de vous conseiller concernant les pièces de rechange ou toute question relative à l’intégration logicielle dans votre infrastructure de laboratoire existante. Vous trouverez de plus amples informations et nos coordonnées auprès de notre service d’approvisionnement.

Pour les processus d’agitation et de chauffage à l’échelle d’un litre, ne nécessitant ni mesure du pH ni documentation numérique du processus, le réacteur de laboratoire IKA LR 1000 basic System (MPN 20119960) offre l’équipement de base de la plateforme de réacteurs LR 1000. Il traite des fluides d’une viscosité allant jusqu’à 100 000 mPas dans un volume utile pouvant atteindre 1 000 millilitres et chauffe le fluide à des températures de fonctionnement allant jusqu’à 120 °C. En tant que modèle d’entrée de gamme de la série LR 1000, il convient aux laboratoires qui ont besoin d’un réacteur de laboratoire compact et chauffé, sans avoir besoin des capteurs supplémentaires de la version LR 1000 control System. Son utilisation se limite ainsi à l’essentiel : régler la vitesse de rotation, définir la température, agiter. Régulation de la vitesse de rotation jusqu’à 100 000 mPas La plage de vitesse du LR 1000 basic System s’étend de 10 à 150 tr/min pour un couple nominal de 3 Nm, avec un écart de vitesse maximal de ±5 tr/min. Cela permet d’agiter de manière contrôlée des fluides dont la viscosité peut atteindre 100 000 mPas. Le système est conçu pour un fonctionnement continu avec un taux de service de 100 %, ce qui permet de mener à bien sans interruption des réactions de longue durée ou des processus d’agitation s’étalant sur plusieurs heures. Cuve de réacteur chauffée d’un volume utile de 1 000 millilitres La cuve du réacteur a une capacité maximale de 1 000 millilitres ; avec un outil de dispersion, le volume minimal est ramené à 500 millilitres, et sans outil de dispersion, à 300 millilitres. Le système de chauffage atteint une puissance de 1 000 watts et chauffe le milieu jusqu’à 120 °C, tandis que la plaque chauffante elle-même peut atteindre des températures allant jusqu’à 180 °C. Le régulateur de température fonctionne avec une précision de ± 0,2 kelvin au niveau du milieu et une précision de réglage de la température de consigne de ± 1 kelvin. Le système est par ailleurs conçu pour fonctionner sous vide jusqu’à 25 mbar. Conception compacte avec raccordement pour sonde de température externe Avec des dimensions de 443 x 360 x 295 millimètres et un poids d’environ 22 kilogrammes, le LR 1000 basic System occupe une surface au sol réduite dans le laboratoire. Une connexion PT100 permet de raccorder une sonde de température externe ; deux raccords de tuyau supplémentaires permettent de raccorder un fluide de refroidissement externe, par exemple pour refroidir de manière contrôlée des réactions exothermiques. Une interface RS 232 et un port USB sont disponibles pour la connexion à un PC. Matériau et résistance Les pièces en contact avec le milieu sont en verre borosilicaté 3.3, en acier inoxydable AISI 316L, en PTFE et en PEEK. Les joints sont en FKM et, associés au verre résistant aux produits chimiques, assurent que le système est adapté aussi bien aux préparations aqueuses qu’à celles contenant des solvants. La température ambiante admissible est comprise entre 5 et 40 °C, et l’humidité relative admissible est de 80 % au maximum. Fonctionnement sous vide pour le dégazage et les opérations sans solvant Outre l’agitation et le chauffage classiques à pression normale, le LR 1000 basic System peut également fonctionner sous vide jusqu’à 25 mbar. Cela s’avère utile, par exemple, lorsqu’il s’agit d’éliminer des bulles d’air d’une formulation visqueuse ou de retirer un solvant en douceur à pression réduite et donc à une température plus basse, plutôt que de chauffer le milieu jusqu’à son point d’ébullition à pression normale. Différence par rapport au LR 1000 control System Le basic System couvre les fonctions de base d’agitation et de chauffage de la gamme LR 1000, mais ne dispose pas de l’écran TFT, de la mesure du pH, de la fonction de pesée intégrée ni de la connexion Bluetooth présentes sur le modèle LR 1000 control System. Pour les applications où un simple contrôle de la température et de la vitesse de rotation, sans enregistrement supplémentaire des valeurs mesurées, suffit, le basic System constitue donc l’option plus économique au sein de la gamme. Domaines d’application typiques Le LR 1000 basic System est adapté aux processus d’agitation et de chauffage à l’échelle d’un litre, sans nécessiter de documentation supplémentaire, partout où un équipement de base solide suffit : Agitation et chauffage de mélanges réactionnels en synthèse chimique Homogénéisation et thermorégulation des crèmes, gels et émulsions dans le développement de produits cosmétiques Dégazage ou concentration de solutions assistés par le vide Développement de formulations dans le cadre du prédéveloppement pharmaceutique Travaux pratiques et formations au cours desquels sont enseignées les bases de l’utilisation d’un réacteur de laboratoire chauffé Procédés de routine dans lesquels la température et la vitesse de rotation doivent être maintenues constantes, sans qu’une mesure du pH soit nécessaire Petits lots dans le cadre du développement de matériaux, pour lesquels une surveillance externe de la température via un PT100 suffit Essais préliminaires visant à tester de nouvelles formulations avant qu’un procédé ne soit transféré vers le control System, plus complet Détails techniques Volume utile max.1 000 ml Volume minimal avec l’outil de dispersion500 ml Volume minimal sans outil de dispersion300 ml Plage de vitesse10 à 150 tr/min Écart de vitesse de rotationmax. ±5 tr/min Couple nominal3 Nm Viscosité maximale100 000 mPas Température de fonctionnement (milieu) max.120 °C Température de chauffage (plaque chauffante) max.180 °C Puissance de chauffage1 000 W Précision de régulation (milieu)±0,2 K Précision de réglage de la température de consigne±1 K Vide atteignable25 mbar Durée de fonctionnement admissible100 % Matériau (pièces en contact avec le fluide)Verre borosilicaté 3.3, acier inoxydable AISI 316L, PTFE, PEEK, FKM InterfacesRS 232, USB Raccordement d’une sonde de température externePT100 Dimensions (L x H x P)443 x 360 x 295 mm Poidsenv. 22 kg Température ambiante admissible5 à 40 °C Humidité relative admissible80 % max. Contenu de la livraison 1 x station de base IKA LR 1000 basic 1 x cuve de réacteur 1 x support de capteur 1 x sonde de température 1 x tige de statif 2 x raccords de tuyau pour le fluide de refroidissement Besoins spécifiques et service d’approvisionnement Pour l’extension du LR 1000 basic System, nous vous accompagnons via notre service d’approvisionnement en vous proposant des accessoires supplémentaires, tels que des cuves de réacteur supplémentaires, des outils de dispersion ou le passage à la version plus complète LR 1000 control System. Nous nous ferons également un plaisir de vous conseiller en matière de pièces de rechange. Vous trouverez de plus amples informations et nos coordonnées auprès de notre service d’approvisionnement.